SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯

 SQ型器皿清洗裝置微波罐溶樣罐燒杯適配我廠PFA溶樣罐（7、15、30、60ml）、鋼套消解罐內(nèi)襯（10ml等）、各廠家微波消解儀內(nèi)罐（如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家）、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。

SQ型酸逆流器皿清洗裝置

一、 基本信息

    1、名稱：酸逆流器皿清洗裝置，型號：SQ-210型  SQ-330型   
    2、清洗對象：適配我廠PFA溶樣罐（7、15、30、60ml）、鋼套消解罐內(nèi)襯（10ml等）、各廠家微波消解儀內(nèi)罐（如美國CEM、邁爾斯通、、屹堯、新儀、海能、新拓、萊伯泰科等廠家）、各類消解管、離心管、試管、燒杯、坩堝、試劑瓶等實驗室常用器皿以及石英罐。甚至用于ICP的霧化室和火炬管等的痕量清洗。
    3、主要材質(zhì)

  （1）腔體為高純所有與器皿接觸的部分均為高純實驗級PTFE材質(zhì)。

  （2）加熱系統(tǒng)可按照客戶要求做成節(jié)能環(huán)保型的硅膠加熱片，功率為350W；或者是我公司的特氟龍加熱電熱板,功率為2000W。

二、工作原理

    利用亞沸的HF 、HCL 、HNO3、高純水、堿類等等實驗室常用酸、堿等常用溶劑的熱蒸汽來清洗反應管、試管、消解管、燒杯、坩堝、容量瓶等實驗室常用器皿。整個清洗過程是通過加熱板加熱產(chǎn)生的高純酸堿蒸氣對器皿的反復對流和冷凝淋洗作用下完成的，清洗器采用空氣冷卻而無需額外冷卻水，可以實現(xiàn)經(jīng)濟安全的過夜工作，與常規(guī)的清洗或酸泡方法相比，蒸汽清洗法的清洗效果更好、更加潔凈無污染。

三、儀器性能及特點

    1、專業(yè)設(shè)計，結(jié)構(gòu)簡單，操作方便，操作人員無需培訓；

    2、適用痕量分析器皿清洗，PFA及PTFE溶樣罐、微波消解罐內(nèi)罐、燒杯、消解管、試管等；

    3、一次性處理量多達26、52、104個樣品（根據(jù)器皿大小而定），也可以根據(jù)器皿高矮設(shè)計成多層，更加高效，快捷；

    4、清洗過程中酸用量少，且清洗后的酸可重復使用，多次循環(huán)清洗，節(jié)省成本；

    5、密閉條件下進行酸蒸氣超凈清洗，防止實驗室污染；

    6、只有100%超純的酸蒸汽接觸需要清洗的器皿表面，所有接觸部件均采用高純實驗級Teflon材料，保證的清潔與低的本底值；

    7、表面污染物被清除后，干凈的器皿將不再接觸清洗過的溶劑——相比較酸缸浸泡，這是更為純凈的清洗。

四、特別說明：

    1、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi)， 桶總高度：260mm, 桶外徑210mm, 一層26孔 （可做3層，即一次性可清洗78個樣品）；

    2、清洗器皿外徑在30mm 及以內(nèi)， 桶總高度：280mm,  桶外徑330mm, 一層50孔（可做3層，即一次性可清洗150個樣品）；

    3、以上所說的樣品數(shù)量是以我廠10ml消解罐內(nèi)襯或PFA 15ml溶樣罐為參考，若是其他細長器皿，可根據(jù)實際長度設(shè)計層數(shù)和批次處理量；也可以按照客戶需求進行定向加工。

五、數(shù)據(jù)說明

    PPb級的清洗結(jié)果利用酸蒸清洗系統(tǒng)清洗后，結(jié)果證明，含PPm級金屬污染的容器可以降低為PPb級。

ZH-酸純化器利用熱輻射原理使酸氣冷凝制備高純酸試劑

• 產(chǎn)品簡介：

酸純化器：又稱酸純化系統(tǒng)，高純酸提純器，酸試劑提純器，高純酸蒸餾純化器等，實驗室工作中常常由于酸的純度較差，造成分析結(jié)果的偏差與錯誤。市售的超純酸往往由于價格較貴，很難滿足日常分析中對酸的大量需求。因此，提純優(yōu)化酸的質(zhì)量，是為經(jīng)濟可行的途徑，我廠的酸純化器可用于實驗室如HNO3、HCl、HF、堿溶液和有機溶劑的純化，純化后的酸和Merck的一樣好，實驗后期可配套我單位Teflon特氟龍系列試劑瓶收取高純酸。

二、工作原理：

酸純化器是利用熱輻射原理，保持液體溫度低于沸點溫度蒸發(fā)，再將其酸蒸氣冷凝從而制備高純水和高純試劑，廣泛應用于樣品處理及分析實驗中。

三、 產(chǎn)品特點：

1、可以滿足ICP、ICP-MS低的檢測限需要及苛刻的分析應用中提供實驗室級超純酸，所用容器均采用Teflon耐腐蝕無吸附塑料，可處理如HNO3、HCl、HF等實驗室的常用酸。

2、實驗證明將金屬雜質(zhì)含量約10ppb的酸經(jīng)過一次蒸餾后，金屬雜質(zhì)含量可以降低到0.01ppb左右。若對酸要求更高，可增加提純次數(shù)。

四、相關(guān)參數(shù)：

五、使用注意事項：
1、所有配件（控制器、電源線、加熱片等除外）放入按實驗要求一定濃度的酸液中浸泡，去除雜質(zhì)。

2、加酸前必須做好個人防護如：防濺眼鏡、防酸手套等（蒸水除外）。

【電子級酸】：

適用于半導體生產(chǎn)過程中所用產(chǎn)品的清洗和蝕刻以及痕量金屬元素殘留分析，根據(jù)質(zhì)控的金屬元素含量的數(shù)量和含量，劃分為4個級別：MOS級，VLSI級，ULSI級，SLSI級

MOS級（EL級）：控制十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在100PPb左右

VLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在10~100PPb

ULSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在10PPb以下

SLSI級：控制三十多個金屬元素，單項金屬元素雜質(zhì)控制在1PPB以下

所謂的電子級酸，其實就是ppb或者ppt級的高純酸。

實驗數(shù)據(jù)（僅供參考）：儀器：CH-I 酸純化器；試劑：優(yōu)級純的HF
蒸餾后，經(jīng)中國地質(zhì)大學地質(zhì)過程與礦產(chǎn)資源國家重點實驗室ICP-MS檢測出HF中雜質(zhì)的含量：

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